ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਨੂੰ ਕਲੇਸ਼ ਕਰਨ ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਟਿਸ਼ਿੰਗ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਅੰਤਰ

ਹਾਲਾਂਕਿ, ਪ੍ਰੈਕਟੀਕਲ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਸਟੀਲ ਦੀਆਂ ਵਿਭਿੰਨ ਕਿਸਮਾਂ ਦੀਆਂ ਵਿਭਿੰਨ ਕਿਸਮਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ ਚੁਣੌਤੀਆਂ ਹਨ. ਸਟੇਨਲੈਸਲੈਸ ਸਟੀਲ ਦੇ ਵੱਖਰੇ ਗ੍ਰੇਡ ਉਨ੍ਹਾਂ ਦੇ ਆਪਣੇ ਵਿਲੱਖਣ ਖਾਰਜ ਵਿਕਾਸ ਦੇ ਪੈਟਰਨ ਨੂੰ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦੇ ਹਨ, ਜੋ ਕਿ ਰਸਾਇਣਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਲਈ ਇਕੋ ਹੱਲ ਵਰਤਣ ਲਈ ਪ੍ਰੇਰਕ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹਨ. ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ, ਸਟੀਲ ਦੇ ਰਸਾਇਣਕ ਪਾਲਿਸ਼ ਦੇ ਟਿਸ਼ੂ ਦੇ ਹੱਲ ਲਈ ਇੱਥੇ ਕਈ ਡੇਟਾ ਕਿਸਮਾਂ ਹਨ.

ਸਟੀਲ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਟਿਸ਼ਿੰਗਐਨਾਓਡ 'ਤੇ ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਉਨ੍ਹਾਂ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਟਿਸ਼ਿੰਗ ਘੋਲ ਵਿਚ ਅਨੌਡਿਕ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਇਸਿਸ ਵਿਚ ਲਗਾਉਂਦੇ ਹਨ. ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪੋਲਿਸ਼ ਕਰਨਾ ਇਕ ਵਿਲੱਖਣ ਅਨੌਡਿਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਹੈ ਜਿਥੇ ਸਟੀਲ ਉਤਪਾਦ ਦੀ ਸਤਹ ਇਕੋ ਸਮੇਂ ਦੋ ਵਿਵਾਦਪੂਰਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਵਿਚ ਆਈ: ਧਾਤ ਦੀ ਸਤਹ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦਾ ਲਗਾਤਾਰ ਗਠਨ ਅਤੇ ਭੰਗ. ਹਾਲਾਂਕਿ, ਰਸਾਇਣਕ ਫਿਲਮ ਦੀਆਂ ਸ਼ਰਤਾਂ ਦਾ ਸੰਵੇਪ ਅਤੇ ਸਟੀਲ ਉਤਪਾਦ ਦੇ ਅਸਥਿਰ ਸਟੀਲ ਉਤਪਾਦ ਦੀਆਂ ਪੁਰਾਣੀਆਂ ਸਤਹਾਂ 'ਤੇ ਬਣੇ ਰਾਜ ਵੱਖਰੇ ਹਨ. ਐਨਡੇਲੇ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਧਾਤ ਦੇ ਲੂਣ ਦੀ ਇਕਾਗਰਤਾ ਨਿਰੰਤਰ, ਸਟੀਲ ਦੇ ਉਤਪਾਦ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਇੱਕ ਸੰਘਣੀ, ਉੱਚ-ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੀ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹੋਏ ਅਨੌਡੀ ਭੰਗ ਕਾਰਨ ਲਗਾਉਂਦੀ ਹੈ.

ਉਤਪਾਦ ਦੇ ਮਾਈਕਰੋ-ਕੋਂਸਵੇਕਸ ਅਤੇ ਸੰਵੇਦਨਸ਼ੀਲ ਸਤਹਾਂ 'ਤੇ ਮੋਟੀ ਫਿਲਮ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਵੱਖਰੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਐਨੋਡ ਮਾਈਕਰੋ-ਸਤਹ ਦੀ ਵੰਡ ਅਸਮਾਨ ਹੈ. ਉੱਚ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਵਾਲੇ ਸਥਾਨਾਂ ਤੇ, ਭੰਗਾਂ ਸੰਗ੍ਰਹਿ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਵਾਪਰਦਾ ਹੈ, ਨਿਰਵਿਘਨ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਉਤਪਾਦ ਸਤਹ 'ਤੇ ਬੁਰਰਾਂ ਜਾਂ ਮਾਈਕਰੋ-ਕੋਂਵੈਕਸ ਬਲਾਕਾਂ ਨੂੰ ਤਰਜੀਹ ਦਿੰਦਾ ਹੈ. ਇਸ ਦੇ ਉਲਟ, ਘੱਟ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਦੇ ਨਾਲ ਖੇਤਰ ਹੌਲੀ ਭੰਗ. ਵੱਖ-ਵੱਖ ਕਰਜ਼ਾਟੀ ਡਿਸਟਰੀਬਿ .ਸ਼ਨਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਉਤਪਾਦ ਸਤਹ ਨਿਰੰਤਰ ਇੱਕ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਵੱਖ ਵੱਖ ਰੇਟਾਂ ਤੇ ਭੰਗ ਕਰਦੀ ਹੈ. ਇਸਦੇ ਨਾਲ ਹੀ, ਅਨੋਡ ਸਤਹ 'ਤੇ ਦੋ ਵਿਰੋਧੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ: ਫਿਲਮ ਦਾ ਗਠਨ ਅਤੇ ਭੰਗ, ਅਤੇ ਨਾਲ ਹੀ ਪਾਸਵਰਡ ਦੀ ਨਿਰੰਤਰ ਪੀੜ੍ਹੀ ਅਤੇ ਭੰਗ. ਇਸ ਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਸਟੀਲ ਦੀ ਸਤਹ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਇਕ ਨਿਰਵਿਘਨ ਅਤੇ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਪਾਲਿਸ਼ ਦਿੱਖ ਵਿਚ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਸਟੀਲ ਦੀ ਸਤਹ ਦੀ ਧਰਤੀ ਦੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਅਤੇ ਸੁਧਾਈ ਦੇ ਟੀਚੇ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨਾ.