1. ਪਾਸਿ iTion ਸਟੇਸ਼ਨ ਪਰਤ ਦਾ ਫਾਰਮੈਟ, ਖੋਰ ਦੇ ਵਿਰੋਧ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ:

ਸਟੀਲਜ਼ ਦੇ ਖੋਰ ਟੱਫਰ ਨੂੰ ਕ੍ਰੋਮਿਅਮ ਆਕਸਾਈਡ (ਸ.ਆਰ.2O3) ਵਾਲੀ ਇੱਕ ਪਾਸਵਰਡ ਲੇਜ਼ਰ ਦੇ ਗਠਨ ਤੇ ਅਧਾਰਤ ਹੈ. ਕਈ ਕਾਰਕ ਮਕੈਨੀਕਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੇਰਿਤ ਸਤਹ ਦੇ ਤਣਾਅ, ਅਤੇ ਗਰਮੀ ਦੇ ਇਲਾਜ ਜਾਂ ਵੈਲਡਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਸਮੇਤ ਪੇਸਵੀਸ਼ਨ ਲੇਅਰ ਦਾ ਨੁਕਸਾਨ ਪਹੁੰਚਾ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਗਰਮੀ ਦੇ ਇਲਾਜ ਦੌਰਾਨ ਲੋਹੇ ਦੇ ਸਕੇਲ ਦੇ ਗਠਨ. ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਸਥਾਨਕ ਜਾਂ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆਵਾਂ ਦੁਆਰਾ ਸਥਾਨਕ ਕ੍ਰੋਮਿਅਮ ਘਾਟ ਕਾਰਨ ਪਾਸਿਵੇਸ਼ਨ ਪਰਤ ਨੁਕਸਾਨ ਵਿੱਚ ਯੋਗਦਾਨ ਪਾਉਣ ਵਾਲਾ ਇਕ ਹੋਰ ਕਾਰਕ ਹੈ.ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ structure ਾਂਚੇ ਨੂੰ ਨੁਕਸਾਨ ਨਹੀਂ ਪਹੁੰਚਾਉਂਦਾ, ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਅਤੇ ਸਥਾਨਕ ਨੁਕਸਾਂ ਤੋਂ ਮੁਕਤ ਹੁੰਦਾ ਹੈ. ਮਕੈਨੀਕਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ, ਇਸ ਦਾ ਨਤੀਜਾ ਕ੍ਰੋਮਿਅਮ ਅਤੇ ਨਿਕਲ ਨਿਘਾਰ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦਾ; ਇਸ ਦੇ ਉਲਟ, ਇਹ ਲੋਹੇ ਦੀ ਸਿਕਾਰਨਾਮੇ ਕਾਰਨ ਕ੍ਰੋਮਿਅਮ ਅਤੇ ਨਿਕਲ ਦੀ ਥੋੜ੍ਹੀ ਜਿਹੀ ਵਾਧਾ ਹੋ ਸਕਦਾ ਹੈ. ਇਹ ਕਾਰਕ ਨਿਰਦੋਸ਼ ਪੇਅਿੰਗ ਪਰਤ ਦੇ ਗਠਨ ਲਈ ਨੀਂਹ ਰੱਖਦੇ ਹਨ. ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਪੋਲਿਸ਼ ਡਾਕਟਰੀ, ਰਸਾਇਣਕ, ਭੋਜਨ ਅਤੇ ਪ੍ਰਮਾਣੂ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਲਾਗੂ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਜਿੱਥੇ ਉੱਚ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੀ ਜ਼ਰੂਰਤ ਹੁੰਦੀ ਹੈ.ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਟਿਸ਼ਿੰਗ ਲਈਇੱਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਹੈ ਜੋ ਮਾਈਕਰੋਸਕੋਪਿਕ ਸਤਹ ਨਿਰਵਿਘਨਤਾ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਇਹ ਵਰਕਪੀਸ ਦੀ ਦਿੱਖ ਨੂੰ ਵਧਾਉਂਦੀ ਹੈ. ਇਹ ਮੈਡੀਕਲ ਫੀਲਡ ਵਿੱਚ ਵਰਤੇ ਗਏ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਾਈਟ ਟਿਸ਼ੂ ਨੂੰ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਅੰਦਰੂਨੀ ਇਮਪਲਾਂਟ ਲਗਾਉਂਦੇ ਹਨ (ਉਦਾਹਰਣ ਵਜੋਂ, ਹੱਡੀਆਂ ਦੀਆਂ ਪਲੇਟਾਂ), ਜਿੱਥੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਬਾਇਓਕਸੀਐਕਟੀ ਜ਼ਰੂਰੀ ਹਨ.