स्टेनलेस स्टील अचार की फंडामेंटल का परिचय

अचार की शुद्धि के लिए नियोजित एक पारंपरिक विधि हैधातु की सतह। आमतौर पर, वर्कपीस को धातु की सतह से ऑक्साइड फिल्मों को हटाने को प्रभावित करने के लिए, अन्य एजेंटों के बीच सल्फ्यूरिक एसिड युक्त एक जलीय घोल में डूब जाता है। यह प्रक्रिया औद्योगिक प्रक्रियाओं जैसे कि इलेक्ट्रोप्लेटिंग, एनामेलिंग, रोलिंग, पासेशन और संबंधित अनुप्रयोगों में एक प्रस्तावना या मध्यस्थ कदम के रूप में कार्य करती है।

स्टेनलेस स्टील अचार की फंडामेंटल का परिचय

स्टील और लोहे की सतहों से स्टील की सतह पर ऑक्साइड त्वचा और जंग को खत्म करने के लिए नियोजित तकनीक, अम्लीय समाधानों का उपयोग करते हुए, अचार के रूप में निरूपित की जाती है।
आयरन ऑक्साइड जैसे ऑक्साइड स्केल और जंग (Fe3O4, Fe2O3, FeO, आदि) एसिड समाधान के साथ रासायनिक प्रतिक्रियाओं से गुजरते हैं, जिससे एसिड समाधान में घुलने वाले लवण बनते हैं और हटा दिए जाते हैं।
अम्लीय समाधानों के साथ एक रासायनिक प्रतिक्रिया से गुजरना, जिसके परिणामस्वरूप घुलनशील लवणों का गठन किया गया है जो बाद में निकाले गए हैं। अचार प्रक्रिया के एसिड में सल्फ्यूरिक एसिड, हाइड्रोक्लोरिक एसिड, फॉस्फोरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड, क्रोमिक एसिड, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड और मिश्रित एसिड शामिल हैं। मुख्य रूप से, सल्फ्यूरिक एसिड और हाइड्रोक्लोरिक एसिड के पसंदीदा विकल्प हैं। अचार के तरीकों में मुख्य रूप से विसर्जन अचार, स्प्रे अचार, और एसिड पेस्ट जंग हटाने में शामिल हैं।

आम तौर पर, विसर्जन अचार का उपयोग आमतौर पर किया जाता है, और स्प्रे विधि का उपयोग बड़े पैमाने पर उत्पादन में किया जा सकता है

स्टील के घटकों को पारंपरिक रूप से 40 डिग्री सेल्सियस के परिचालन तापमान पर 10% से 20% (मात्रा द्वारा) सल्फ्यूरिक एसिड समाधान में अचार के अधीन किया जाता है। अचार समाधान का प्रतिस्थापन अनिवार्य हो जाता है जब लोहे की सामग्री 80g/L से अधिक हो जाती है और लौह सल्फेट समाधान में 215g/L से अधिक हो जाता है।

कमरे के तापमान पर,अचार20% से 80% (वॉल्यूम) हाइड्रोक्लोरिक एसिड समाधान के साथ जंग और हाइड्रोजन उत्सर्जन के लिए कम प्रवण होता है।
धातुओं की ओर एसिड की स्पष्ट संक्षारक प्रोकलिटी के कारण, संक्षारण अवरोधकों को पेश किया जाता है। क्लीनिंग के बाद, धातु की सतह एक चांदी-सफेद उपस्थिति को प्रदर्शित करती है, समवर्ती रूप से स्टेनलेस स्टील के संक्षारण प्रतिरोध विशेषताओं को बढ़ाने के लिए पारित होने से गुजर रही है।

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पोस्ट टाइम: NOV-22-2023