1. પેસિવેશન લેયરની રચના, કાટ પ્રતિકારમાં સુધારો:

સ્ટેઈનલેસ સ્ટીલની કાટ પ્રતિકાર ક્રોમિયમ ox કસાઈડ (સીઆર 2 ઓ 3) ધરાવતા પેસિવેશન લેયરની રચના પર આધારિત છે. કેટલાક પરિબળો પેસિવેશન સ્તરને નુકસાન પહોંચાડે છે, જેમાં સપાટીની અશુદ્ધિઓ, યાંત્રિક પ્રક્રિયા દ્વારા પ્રેરિત તણાવ તણાવ અને ગરમીની સારવાર અથવા વેલ્ડીંગ પ્રક્રિયાઓ દરમિયાન આયર્ન ભીંગડાની રચના શામેલ છે. વધુમાં, થર્મલ અથવા રાસાયણિક પ્રતિક્રિયાઓને કારણે સ્થાનિક ક્રોમિયમ અવક્ષય એ એક બીજું પરિબળ છે જે પેસિવેશન લેયર નુકસાનમાં ફાળો આપે છે.વિદ્યુત -પોલિશિંગસામગ્રીની મેટ્રિક્સ સ્ટ્રક્ચરને નુકસાન પહોંચાડતું નથી, તે અશુદ્ધિઓ અને સ્થાનિક ખામીથી મુક્ત છે. યાંત્રિક પ્રક્રિયાની તુલનામાં, તે ક્રોમિયમ અને નિકલ અવક્ષયમાં પરિણમતું નથી; તેનાથી .લટું, તે લોખંડની દ્રાવ્યતાને કારણે ક્રોમિયમ અને નિકલના થોડું સંવર્ધન તરફ દોરી શકે છે. આ પરિબળો દોષરહિત પેસિવેશન સ્તરની રચના માટે પાયો મૂકે છે. ઇલેક્ટ્રોલાઇટિક પોલિશિંગ તબીબી, રાસાયણિક, ખોરાક અને પરમાણુ ઉદ્યોગોમાં લાગુ પડે છે જ્યાં ઉચ્ચ કાટ પ્રતિકાર જરૂરી છે.ઇલેક્ટ્રોલાઇટિક પોલિશિંગથીએક પ્રક્રિયા છે જે માઇક્રોસ્કોપિક સપાટીની સરળતા પ્રાપ્ત કરે છે, તે વર્કપીસના દેખાવને વધારે છે. આ તબીબી ક્ષેત્રની એપ્લિકેશન માટે ઇલેક્ટ્રોલાઇટિક પોલિશિંગને યોગ્ય બનાવે છે, જેમ કે શસ્ત્રક્રિયાઓમાં ઉપયોગમાં લેવામાં આવતા આંતરિક પ્રત્યારોપણ (દા.ત., હાડકાની પ્લેટો, સ્ક્રૂ), જ્યાં કાટ પ્રતિકાર અને બાયોકોમ્પેટીબિલીટી બંને આવશ્યક છે.